一種拋釉磚生產(chǎn)工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種拋釉磚生產(chǎn)工藝，屬于建筑陶瓷生產(chǎn)【技術(shù)領(lǐng)域】。所述生產(chǎn)工藝包括如下步驟：布料成型、施底釉、印花、施面釉、燒成、拋磨；其中施底釉步驟中使用的底釉為磷硼或硼鈣多相乳濁釉，且所述底釉中含有質(zhì)量份數(shù)為0.5%～3%的銳鈦型氧化鈦或0.5%～5%凹凸棒土。和現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的拋釉磚生產(chǎn)工藝具有如下優(yōu)勢：墨水用量少，發(fā)色清晰，基本無色差色偏，而且噴墨阻塞概率降低，噴頭清洗保養(yǎng)次數(shù)減少，提高生產(chǎn)的連續(xù)性，除必要的檢修外，很少有中途停機(jī)情況發(fā)生。
【專利說明】一種拋釉磚生產(chǎn)工藝
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及建筑陶瓷生產(chǎn)技術(shù)，尤其涉及一種拋釉磚生產(chǎn)工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]拋釉磚是近年來流行的一種陶瓷墻地磚產(chǎn)品，其通過在磚坯上施以底釉后印花，之后再施以一層透明面釉，入窯燒成后，再對透明面釉層進(jìn)行拋光，得到拋釉磚產(chǎn)品。其具有釉中彩的效果，印花層在透明面釉層的保護(hù)下，基本不會被磨損；而且經(jīng)拋光處理，使產(chǎn)品光澤度高，裝飾效果好。
[0003]噴墨打印技術(shù)是繼滾筒印花和絲網(wǎng)印花后的第三代印花技術(shù)，其通過噴墨打印機(jī)，在磚坯上依照預(yù)設(shè)圖案打印出圖案花紋。目前陶瓷噴墨打印機(jī)所使用的油墨多為油性油墨，需要高溫?zé)Y(jié)后依然保持圖案的色澤，油墨中的發(fā)色組分主要為高溫?zé)o機(jī)色料，而且需要發(fā)色穩(wěn)定。為保證圖案印花層的清晰，施于坯體表面的底釉層需要較高的白度，這樣才能保證噴墨印花后圖案的 清晰度，因此底釉基本采用鋯基釉料，但鋯基底釉對多數(shù)墨水呈色有影響，這就需要增大用墨量來保證發(fā)色效果。而且有些色系對底釉組分比較敏感，例如藍(lán)色和洋紅色系墨水在鋯基底釉中會有一定色偏，造成對于呈現(xiàn)紫色、粉紅色等色澤影響較大。這是因?yàn)槟邪l(fā)色顏料細(xì)度< lum，在燒結(jié)過程中，容易被鋯基包裹，影響發(fā)色效果，造成色偏、色淺等缺陷。而且鋯基釉料具有一定放射性，雖然目前選擇多選擇硅酸鋯或硼鋯熔塊使用，但較其它組分的釉料放射性還偏高?！爸袊I(yè)陶瓷”2010年8月第17卷第4期公開了文獻(xiàn)號為:1006-2874 (2010) 04-0001-07的文獻(xiàn)資料《環(huán)境友好型高白乳濁釉的研究》，其公開了:以Ca3(PO3)2、滑石、石英及硼熔塊為基本組成，研制了無乳濁劑R2O-RO-Al2O3-SiO2-P2O5-B2O3體系環(huán)境友好型高白乳濁釉。通過X射線衍射及掃描電鏡分析，研究了不同B203/P205質(zhì)量比和燒成溫度對釉面性能及釉的顯微結(jié)構(gòu)等的影響，并對磷硼多相乳濁釉的乳濁機(jī)理進(jìn)行了分析。結(jié)果表明:在B203/P205質(zhì)量比為1/2~2區(qū)域，1200°C燒成溫度，可以得到白度較高的乳濁釉；B203/P205質(zhì)量比不同時，釉熔體產(chǎn)生多次不混溶相，出現(xiàn)微相功能轉(zhuǎn)換，乳濁度也隨之改變；B203/P205質(zhì)量比為I時，釉中分相小滴相對較多，尺寸與可見光相近，且分散性高，使釉對光的折射與散射能力強(qiáng)，釉面呈現(xiàn)高乳白效果，白度可達(dá)87。雖然此種釉料作為底釉放射性較低，但釉中分相小滴較多，底釉層表面的分相小滴容易包裹油墨中的發(fā)色色料，作為噴墨打印用底釉還是有鋯基底釉相似的問題，即油墨發(fā)色不好，需要增加用墨量才能達(dá)到預(yù)期效果，這不僅浪費(fèi)油墨，造成噴頭堵塞概率增高，而且對生產(chǎn)調(diào)色也有一定影響。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提出一種拋釉磚生產(chǎn)工藝，其能避免在燒成過程中底釉對噴墨印花層發(fā)色的影響，節(jié)省油墨，降低噴頭阻塞概率，提高生產(chǎn)效率。
[0005]為達(dá)此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:一種拋釉磚生產(chǎn)工藝，其包括如下步驟: 步驟I)布料成型:選擇陶瓷墻地磚生產(chǎn)常用原料，經(jīng)球磨、除鐵、陳腐、造粒后沖壓成型，制成磚還;
步驟2)施底釉:將步驟I沖壓成型的磚坯干燥后，通過噴釉或淋釉的方式施底釉； 步驟3)印花:待底釉干燥后，選擇陶瓷噴墨印花機(jī)在底釉上噴墨印花形成噴墨印花
層；
步驟4)施面釉:印花后，通過噴釉或淋釉方式施面釉，所述面釉為透明釉；
步驟5)燒成:入輥道窯氧化氣氛燒成，燒成溫度1100~1220°C，燒成周期70~120分鐘；
步驟6)拋磨:燒成后，待制品冷卻，進(jìn)行磨邊和拋光加工，得到成品；
其特征在于:步驟2)中所述底釉為磷硼或硼鈣多相乳濁釉，且所述底釉中含有質(zhì)量份數(shù)為0.5%~3%的銳鈦型氧化鈦或0.5%~5%凹凸棒土。
[0006]選用磷硼或硼鈣多相乳濁釉中不含有鋯，放射性較低；而且在其中加入銳鈦型氧化鈦可以進(jìn)入釉中分相小液滴中，進(jìn)而減少油墨中發(fā)色色料被包裹的概率，而且銳鈦型氧化鈦本身就有乳濁效果，可以進(jìn)一步增加底釉白度，讓油墨獲得更佳的顯色效果。凹凸棒土又稱坡縷石(Palygouskite)或坡縷縞石，是一種具鏈層狀結(jié)構(gòu)的含水富鎂硅酸鹽粘土礦物。凹凸棒石具有獨(dú)特的分散、耐高溫、抗鹽堿等良好的膠體性質(zhì)和較高的吸附脫色能力。并具有一定的可塑性及粘結(jié)力，具有介于鏈狀結(jié)構(gòu)和層狀結(jié)構(gòu)之間的中間結(jié)構(gòu)。其結(jié)構(gòu)屬
2:1型粘土礦物。在每個2:1單位結(jié)構(gòu)層中，四面體晶片角頂隔一定距離方向顛倒，形成層鏈狀。在四面體條帶間形成與鏈平行的通道，通道中充填沸石水和結(jié)晶水。因此加入底釉中可以增加釉漿的粘度，有較好的附著；而且，在燒成時，上述通道中充填沸石水和結(jié)晶水會分解，底釉中乳濁分相小液滴會部分插入上述通道中，減少對油墨發(fā)色的影響，使油墨獲得較佳的發(fā)色效果。
[0007]優(yōu)選地，在上述拋釉磚生產(chǎn)工藝中，所述底釉中銳鈦型氧化鈦所占質(zhì)量份數(shù)為1%~1.5%。加入量較少時，效果不明顯，加入較多時可能會使得乳濁效果變差，釉面毛糙、針孔等缺陷增多。
[0008]優(yōu)選地，在上述拋釉磚生產(chǎn)工藝中，所述底釉中凹凸棒土所占質(zhì)量份數(shù)為2%~4%。同銳鈦型氧化鈦類似，加入少時，效果不明顯，較多時，也會降低釉面質(zhì)量。
[0009]本發(fā)明還公開一種優(yōu)選方案，即在上述拋釉磚生產(chǎn)工藝中，在所述底釉中加入質(zhì)量份數(shù)為0.5%~2%的氧化錫。氧化錫，作為一種優(yōu)良的乳濁劑，可以獲得乳濁效果更好的釉面，而且可以改善釉面質(zhì)量，使釉面光滑、基本無針孔缺陷。
[0010]本發(fā)明還公開一種優(yōu)選方案，即在上述拋釉磚生產(chǎn)工藝中，所述底釉為硼鈣多相乳濁釉時，其中所述的鈣元素是通過硅灰石引入的。
[0011]在上述拋釉磚生產(chǎn)工藝中，所述底釉中的鐵或錳元素含量之和≤ 0.1%。
[0012]在上述拋釉磚生產(chǎn)工藝中，所述施底釉步驟形成的底釉層厚度為0.2mm~0.5_。
[0013]和現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的拋釉磚生產(chǎn)工藝具有如下優(yōu)勢:墨水用量少，發(fā)色清晰，基本無色差色偏，而且噴墨阻塞概率降低，噴頭清洗保養(yǎng)次數(shù)減少，提高生產(chǎn)的連續(xù)性，除必要的檢修外，很少有中途停機(jī)情況發(fā)生。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面通過【具體實(shí)施方式】來進(jìn)一步說明本發(fā)明的技術(shù)方案。應(yīng)當(dāng)理解，以下實(shí)施例為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例或可實(shí)施范圍截取的部分實(shí)例，對于工藝參數(shù)或工藝步驟的描述不應(yīng)僅局限于實(shí)施例中給出的特定例子，而且在描述中，為了節(jié)省篇幅，對于【背景技術(shù)】或本領(lǐng)域普通技術(shù)人員公知的知識將僅進(jìn)行簡要說明。
[0015]實(shí)施例1
本實(shí)施例中選用硼鈣乳濁釉作為底釉，其中含有質(zhì)量份數(shù)為0.5%的銳鈦型氧化鈦。
[0016]底釉中化學(xué)組成具體如下:二氧化硅55.5%~61.5% ;氧化鋁:8.5%~11.5% ;氧化鐵0.09% ;氧化鈣:7.5%~12.5% ;氧化硼:7.5%~10.5% ;氧化鎂.( 1.0% ;氧化鈉:
1.0%~2.0% ;氧化鋅:5.0%~6.0% ;氧化鉀:9.0%~10.0% ;氧化鋰:< 1.0% ;銳鈦型氧化鈦:0.5%。
[0017]按照如上配方比例計(jì)算所用原料配方，在本實(shí)施例中選用鉀長石、石英粉、硅灰石、高嶺土、滑石、硼熔塊、銳鈦型氧化鈦、氧化鋅等為原料，加水球磨，在球磨時需要額外加釉料干料重量0.03%~0.05%的羧甲基纖維素和0.1%~0.3%的三聚磷酸鈉。球磨后釉漿的325目篩余I~2%，流動性< 100S。施釉時釉漿比重為1.60~1.70。使用硅灰石作為原料能提高釉面性能，而且能使得更易形成硼鈣乳濁相。
[0018]下面詳細(xì)介紹此種拋釉磚生產(chǎn)工藝。
[0019]步驟I)布料成型:選擇陶瓷墻地磚生產(chǎn)常用原料一長石、粘土、砂、添加劑等，經(jīng)球磨、除鐵、陳腐、造粒后沖壓成型，制成磚還。在本實(shí)施例中選用600_X600mm規(guī)格的模具，模具系數(shù)為1.1。沖壓時，粉料含水率以5%左右為宜。
[0020]步驟2)施底釉:將步驟I沖壓成型的磚坯干燥后，通過噴釉或淋釉的方式施底釉。底釉配方和工藝參數(shù)上面已經(jīng)介紹，這里就不額外贅述。在施底釉前，優(yōu)選對坯體進(jìn)行清掃，并噴水潤濕。
[0021]步驟3)印花:待底釉干燥后，選擇陶瓷噴墨印花機(jī)在底釉上噴墨印花形成噴墨印花層。在本實(shí)施例中選用的是希望陶瓷機(jī)械有限公司生產(chǎn)的四色噴墨打印系統(tǒng)，墨水采用西班牙意達(dá)加(esmaglass ^itaca)公司所生產(chǎn)的粉紅、黃色、棕色、藍(lán)色墨水。因作為測試使用，印花圖案為紫色。
[0022]步驟4)施面釉:印花后，通過噴釉或淋釉方式施面釉，所述面釉為透明釉。在本實(shí)施例中其配方干料組分質(zhì)量比為:透明熔塊類助熔劑65%，高嶺土 /煅燒高嶺土 10%，煅燒滑石5%，氧化鋁5%，氧化鋅10%，碳酸鈣5%。外加干料總重0.05%的羧甲基纖維素、0.3%的三聚磷酸鈉、35%的水球磨。球磨后釉漿的325目篩余I~2%，流動性< 100S。施釉時釉漿比重為1.59,施釉厚度為0.2mm~0.4mm。
[0023]本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，以上關(guān)于透明釉的配方和工藝參數(shù)僅是示例性的，在實(shí)際生產(chǎn)中，可以根據(jù)燒成制度來進(jìn)行相應(yīng)調(diào)整。
[0024]步驟5)燒成:入輥道窯氧化氣氛燒成，燒成溫度1100~1220°C，燒成周期70~120分鐘；
步驟6)拋磨:燒成后，待制品冷卻，進(jìn)行磨邊和拋光加工，得到成品。
[0025]生產(chǎn)測試表明，生產(chǎn)選定的標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為8.0g/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而進(jìn)行的檢修2次。
[0026]實(shí)施例2
與實(shí)施例1基本相同，所不同之處在于，所采用的底釉為硼磷多相乳濁釉，且其中銳鈦型氧化鈦質(zhì)量份數(shù)為1.0%。【背景技術(shù)】中已經(jīng)公開在B2O3A32O5質(zhì)量比為I時，釉中分相小滴相對較多，尺寸與可見光相近，且分散性高，使釉對光的折射與散射能力強(qiáng)，釉面呈現(xiàn)高乳白效果，化學(xué)組成具體如下:
二氧化硅55.5%~61.5% ;氧化鋁:8.5%~11.5% ;氧化鐵?.≤ 0.09% ;氧化鈣:1.5%~
2.5% ;五氧化二磷:5.0%~9.5% ;氧化硼:5.0%~9.5% ;氧化鎂≤1.0% ;氧化鈉:1.0%~
2.0% ;氧化鋅:5.0%~6.0% ;氧化鉀:9.0%~10.0% ;氧化鋰:≤ 1.0% ;銳鈦型氧化鈦:1.0%。
[0027]按照如上配方比例計(jì)算所用原料配方，在本實(shí)施例中選用鉀長石、石英粉、硅灰石、骨灰、高嶺土、滑石、硼熔塊、銳鈦型氧化鈦、氧化鋅等為原料，加水球磨，在球磨時需要額外加釉料干料重量0.03%~0.05%的羧甲基纖維素和0.1%~0.3%的三聚磷酸鈉。球磨后釉漿的325目篩余I~2%，流動性< IOOS0施釉時釉漿比重為1.60~1.70。形成底釉層厚度以0.2mm~0.5mm。為宜。
[0028]其余步驟如實(shí)施例1。生產(chǎn)測試表明，生產(chǎn)選定的標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為
7.0g/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而進(jìn)行的檢修0次。
[0029]實(shí)施例3
與實(shí)施例1基本相同，所不同之處在于，底釉中銳鈦型氧化鈦質(zhì)量份數(shù)為1.5%。
[0030]底釉中化學(xué)組成具體如下:二氧化硅55.5%~61.5% ;氧化鋁:8.5%~11.5% ;氧化鐵≤0.09% ;氧化鈣:7.5%~12.5% ;氧化硼:7.5%~10.5% ;氧化鎂≤ 1.0% ;氧化鈉:
1.0%~2.0% ;氧化鋅:5.0%~6.0% ;氧化鉀:9.0%~10.0% ;氧化鋰:≤1.0% ;銳鈦型氧化鈦:1.5%。
[0031]生產(chǎn)測試表明，生產(chǎn)選定的標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為6.Sg/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而進(jìn)行的檢修0次。
[0032]實(shí)施例4
與實(shí)施例2基本相同，所不同之處在于，基釉中銳鈦型氧化鈦質(zhì)量份數(shù)為3.0%。
[0033]生產(chǎn)測試表面，生產(chǎn)選定的標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為7.5g/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而進(jìn)行的檢修I次。因含有較多的氧化鈦，底釉白度有一定下降，造成色澤略偏黃。單獨(dú)將此底釉燒成后，測試白度僅為82度，低于生產(chǎn)的不低于85度的需求。
[0034]實(shí)施例5
本實(shí)施例中選用硼鈣乳濁釉作為底釉，其中含有質(zhì)量份數(shù)為0.5%的凹凸棒土。
[0035]底釉中凹凸棒土所占質(zhì)量份數(shù)為0.5%。除凹凸棒土外的化學(xué)組成具體如下:二氧化硅54.5%~60.5% ;氧化鋁:8.5%~11.5% ;氧化鐵/氧化錳:≤ 0.1% ;氧化鈣:7.5%~12.5% ;氧化硼:7.5%~10.5% ;氧化鎂:≤1.0% ;氧化鈉:1.0%~2.0% ;氧化鋅:5.5%~
6.5% ;氧化鉀:8.5%~9.5% ;氧化鋰≤ 1.0%。
[0036]按照如上配方比例計(jì)算所用原料配方，在本實(shí)施例中選用鉀長石、石英粉、硅灰石、高嶺土、滑石、硼熔塊、氧化鋅、凹凸棒土等為原料，加水球磨，在球磨時需要額外加釉料干料重量0.03%~0.05%的羧甲基纖維素和0.1%~0.3%的三聚磷酸鈉。球磨后釉漿的325目篩余I~2%，流動性< IOOS0施釉時釉漿比重為1.55~1.65。
[0037]生產(chǎn)工藝基本如實(shí)施例1所示，所不同的是樣板測試顏色為淺粉紅色。
[0038]生產(chǎn)測試表明，生產(chǎn)選定的標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為6.5g/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而中途進(jìn)行的檢修I次。[0039]實(shí)施例6
本實(shí)施例采用的底釉為硼磷多相乳濁釉，底釉中凹凸棒土所占質(zhì)量份數(shù)為2.0%。除凹凸棒土外的化學(xué)組成具體如下:二氧化娃54.5%~60.5% ;氧化招:7.5%~10.5% ;氧化鐵/氧化錳0.1% ;氧化鈣:1.5%~2.5% ;五氧化二磷:5.0%~9.5% ;氧化硼:5.0%~9.5% ；氧化鎂.≤ 0.5% ;氧化鈉:1.0%~2.0% ;氧化鋅:5.0%~6.0% ;氧化鉀:9.0%~10.0% ;氧化鋰:≤1.0%。
[0040]按照如上配方比例計(jì)算所用原料配方，在本實(shí)施例中選用鉀長石、石英粉、硅灰石、高嶺土、滑石、硼熔塊、骨灰、氧化鋅、凹凸棒土等為原料，加水球磨，在球磨時需要額外加釉料干料重量0.03%~0.05%的羧甲基纖維素和0.1%~0.3%的三聚磷酸鈉。球磨后釉漿的325目篩余I~2%，流動性< 100S。施釉時釉漿比重為1.55~1.65。
[0041]生產(chǎn)工藝與實(shí)施例6相同。生產(chǎn)測試表明，生產(chǎn)選定淺粉紅色標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為6.0g/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而中途進(jìn)行的檢修0次。
[0042]實(shí)施例7
與實(shí)施例5工藝基本相同，所不同之處在于，底釉中凹凸棒土質(zhì)量份數(shù)為4%。生產(chǎn)測試表明，生產(chǎn)選定的標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為6.2g/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而中途進(jìn)行的檢修0次。
[0043]實(shí)施例8
與實(shí)施例6工藝基本相同，所不同之處在于，底釉中凹凸棒土質(zhì)量份數(shù)為5%。生產(chǎn)測試表明，生產(chǎn)選定的標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為6.5g/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而中途進(jìn)行的檢修I次。當(dāng)凹凸棒土使用量達(dá)到5%時，底釉燒成溫度偏高，造成底釉釉面質(zhì)量變差，在生產(chǎn)精細(xì)構(gòu)圖的圖案時會對圖案分辨率造成一定影響，而且也有可能出現(xiàn)分層或造成透明保護(hù)釉面質(zhì)量變差的影響。
[0044]實(shí)施例9
氧化錫，作為一種優(yōu)良的乳濁劑，不僅能提高釉面白度，而且能改善釉面質(zhì)量。在此實(shí)施例中，我們選擇在實(shí)施例4的底釉基礎(chǔ)上，添加質(zhì)量份數(shù)為0.5%的氧化錫，其它工藝基本相同。
[0045]添加氧化錫后，底釉白度增加，單獨(dú)燒成后經(jīng)白度儀測試，白度達(dá)到87度，符合生產(chǎn)需求，而且釉面平滑細(xì)膩。
[0046]生產(chǎn)測試表明，生產(chǎn)測試表面，生產(chǎn)選定的標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為7.3g/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而進(jìn)行的檢修I次。
[0047]實(shí)施例10
在此實(shí)施例中，我們選擇再實(shí)施例8的底釉基礎(chǔ)上，添加質(zhì)量份數(shù)為2%的氧化錫，其它工藝基本相同。
[0048]添加氧化錫后，釉面質(zhì)量明顯提高，而且釉質(zhì)細(xì)膩。生產(chǎn)測試表明，生產(chǎn)選定的標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為6.3g/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而中途進(jìn)行的檢修0次。
[0049]為了能更好說明本發(fā)明提供方案的有限，提供如下對比實(shí)施例1-4。
[0050]對比實(shí)施例1
選用鋯基底釉，鋯基底釉以鈉長石、硼熔塊、硅酸鋯、高嶺土、石英石為原料，具體組分為鈉長石40%，硼熔塊20%，硅酸鋯10%，高嶺土 10%，石英20%。加水球磨，在球磨時需要額外加釉料干料重量0.03%~0.05%的羧甲基纖維素和0.1%~0.3%的三聚磷酸鈉。球磨后釉漿的325目篩余2~3%，流動性< 100S。施釉時釉漿比重為1.59 。
[0051]選用如實(shí)施例1的生產(chǎn)工藝生產(chǎn)如實(shí)施例1_4、9的紫色樣板。
[0052]生產(chǎn)測試表明，生產(chǎn)選定的標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為10.2g/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而中途進(jìn)行的檢修5次。
[0053]對比實(shí)施例2
選用如對比實(shí)施例1的工藝生產(chǎn)樣板，所不同產(chǎn)選定的標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為8.4g/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而中途進(jìn)行的是，噴墨打印生產(chǎn)的標(biāo)準(zhǔn)色板如實(shí)施例5-8、10的淺粉紅樣板。生產(chǎn)測試表明，生的檢修4次。
[0054]對比實(shí)施例3
選用文獻(xiàn)《環(huán)境友好型高白乳濁釉的研究》中公開的以Ca3(PO3)2、滑石、石英及硼熔塊為基本組成，制備的無乳濁劑R2O-RO-Al2O3-SiO2-P2O5-B2O3體系環(huán)境友好型高白乳濁釉作為底釉。
[0055]采用如實(shí)施例1的制備工藝生產(chǎn)如實(shí)施例1_4、9的紫色樣板。
[0056]生產(chǎn)測試表明，生產(chǎn)選定的標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為9.Sg/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而中途進(jìn)行的檢修4次。
[0057]對比實(shí)施例4
選用文獻(xiàn)《環(huán)境友好型高白乳濁釉的研究》中公開的以Ca3(PO3)2、滑石、石英及硼熔塊為基本組成，制備的無乳濁劑R2O-RO-Al2O3-SiO2-P2O5-B2O3體系環(huán)境友好型高白乳濁釉作為底釉。
[0058]采用如對比實(shí)施例3的生產(chǎn)工藝生產(chǎn)樣板。與對比實(shí)施例3所不同的是選定的標(biāo)準(zhǔn)色板為如實(shí)施例5-8、10的淺紅色樣板。
[0059]生產(chǎn)測試表明，生產(chǎn)選定的標(biāo)準(zhǔn)色板需要耗費(fèi)油墨約為8.5g/片；連續(xù)生產(chǎn)10班次，因噴頭阻塞而中途進(jìn)行的檢修4次。
[0060]通過實(shí)施例1-10與對比實(shí)施例1-4的比較，我們可以得出以下結(jié)論:底釉為磷硼或硼鈣多相乳濁釉，且所述底釉中含有質(zhì)量份數(shù)為0.5%~5%的銳鈦型氧化鈦或凹凸棒土的工藝具有節(jié)省油墨，減少噴頭阻塞等故障率的優(yōu)點(diǎn)，進(jìn)而降低生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)連續(xù)性。
[0061]另外，公知鋯具有較高的放射性，使用其作為乳濁劑的釉面具有較高的放射性。而本發(fā)明提供的拋釉磚生產(chǎn)工藝中所采用底釉不含有鋯，而且也不含有其它高放射性的礦物原料，因此更為綠色環(huán)保，對人體危害更小。
[0062]以上結(jié)合具體實(shí)施例描述了本發(fā)明的技術(shù)原理。這些描述只是為了解釋本發(fā)明的原理，而不能以任何方式解釋為對本發(fā)明保護(hù)范圍的限制?；诖颂幍慕忉?，本領(lǐng)域的技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性的勞動即可聯(lián)想到本發(fā)明的其它【具體實(shí)施方式】，這些方式都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1 .一種拋釉磚生產(chǎn)工藝，其包括如下步驟: 步驟I)布料成型:選擇陶瓷墻地磚生產(chǎn)常用原料，經(jīng)球磨、除鐵、陳腐、造粒后沖壓成型，制成磚還; 步驟2)施底釉:將步驟I沖壓成型的磚坯干燥后，通過噴釉或淋釉的方式施底釉； 步驟3)印花:待底釉干燥后，選擇陶瓷噴墨印花機(jī)在底釉上噴墨印花形成噴墨印花層； 步驟4)施面釉:印花后，通過噴釉或淋釉方式施面釉，所述面釉為透明釉； 步驟5)燒成:入輥道窯氧化氣氛燒成，燒成溫度1100~1220°C，燒成周期70~120分鐘； 步驟6)拋磨:燒成后，待制品冷卻，進(jìn)行磨邊和拋光加工，得到成品； 其特征在于:步驟2)中所述底釉為磷硼或硼鈣多相乳濁釉，且所述底釉中含有質(zhì)量份數(shù)為0.5%~3%的銳鈦型氧化鈦或0.5%~5%凹凸棒土。
2.如權(quán)利要求1所述的一種拋釉磚生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述底釉中銳鈦型氧化鈦所占質(zhì)量份數(shù)為1%~1.5%。
3.如權(quán)利要求1所述的一種拋釉磚生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述底釉中凹凸棒土所占質(zhì)量份數(shù)為2%~4%。
4.如權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的一種拋釉磚生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述底釉中含有質(zhì)量份數(shù)為0.5%~2%的氧化錫。
5.如權(quán)利要求1所述的一種拋釉磚生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述底釉為硼鈣多相乳濁釉時，所述的鈣元素是通過硅灰石引入的。
6.如權(quán)利要求1所述的一種拋釉磚生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述底釉中的鐵或錳元素含量之和< 0.1%。
7.如權(quán)利要求1所述的一種拋釉磚生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述施底釉步驟形成的底軸層厚度為0.2mm~0.5mm。
【文檔編號】C04B41/89GK103524147SQ201310511350
【公開日】2014年1月22日 申請日期:2013年10月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月25日
【發(fā)明者】史亮亮, 廖波, 鐘思聰, 毛星華 申請人:廣東金牌陶瓷有限公司