1.一種高純輕金屬摻雜linbo3壓電涂層的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純輕金屬摻雜linbo3壓電涂層的制備方法,其特征在于,以所述輕金屬的原子質(zhì)量計(jì),所述輕金屬的摻雜原子數(shù)量占比為0.25?–?8.5%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純輕金屬摻雜linbo3壓電涂層的制備方法,其特征在于,所述輕金屬為cr時(shí),摻雜原子數(shù)量占比為1.1?–?6.42%;
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純輕金屬摻雜linbo3壓電涂層的制備方法,其特征在于,所述理想真空度為(1?–?5)×10-3?pa。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純輕金屬摻雜linbo3壓電涂層的制備方法,其特征在于,對(duì)所述磁控濺射設(shè)備進(jìn)行加熱的目標(biāo)溫度,可以選擇為100-200℃。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純輕金屬摻雜linbo3壓電涂層的制備方法,其特征在于,設(shè)置環(huán)境參數(shù)中,引入的ar氣和o2氣的流量體積比為4/1-6/1,ar氣和o2氣的總流量為0.9-2.0pa。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純輕金屬摻雜linbo3壓電涂層的制備方法,其特征在于,設(shè)置環(huán)境參數(shù)中,射頻功率為800-900?w,偏置電壓2-10?v。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純輕金屬摻雜linbo3壓電涂層的制備方法,其特征在于,所述襯底的正面和所述輕金屬元素?fù)诫s鈮酸鋰靶材的表面的間距為4.5-7?cm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純輕金屬摻雜linbo3壓電涂層的制備方法,其特征在于,沉積輕金屬摻雜linbo3壓電涂層的時(shí)間為6-9?h。
10.一種采用權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的制備方法制備的高純輕金屬摻雜linbo3壓電涂層。