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      輪胎硫化用氣囊以及充氣輪胎制造方法_3

      文檔序號:8435017閱讀:來源:國知局
      內(nèi)的氣囊I剖面積,可設(shè)為不設(shè)置環(huán)狀條狀花紋4A時(即固定膜厚Gb時)剖面積的130%?160%左右。
      [0054]環(huán)狀條狀花紋4A的高度H不足膜厚Gb的50%、或配置間隔Pr超過膜厚Gb的2.0時,氣囊I周向剛性的提尚易過小。環(huán)狀條狀花紋4A的尚度H超過I旲厚Gb的100%、或配置間隔Pr不足膜厚Gb的0.5時,氣囊I周向剛性的提高易過大,從而易造成制造難度(包括成本增高),或者與其他部分的導熱性差異過大。
      [0055]環(huán)狀凹槽花紋5A的深度D例如優(yōu)選為氣囊主體部2膜厚Gb的0.3以上0.5以下(30%?50% )。環(huán)狀凹槽花紋5A的配置間隔Pg優(yōu)選為氣囊主體部2膜厚Gb減去環(huán)狀凹槽花紋5A深度D后所得最小厚度的0.5以上2.0以下(50%?200%)。進而,設(shè)有環(huán)狀凹槽花紋5A范圍內(nèi)的氣囊I剖面積,可設(shè)為不設(shè)置環(huán)狀凹槽花紋5A時(即固定膜厚Gb時)剖面積的70%以上。
      [0056]環(huán)狀凹槽花紋5A的深度D不足氣囊主體部2膜厚Gb的0.3、或配置間隔Pg超過氣囊主體部2膜厚Gb減去環(huán)狀凹槽花紋5A深度D后所得最小厚度的2.0時,氣囊I上下方向剛性的降低易過小。環(huán)狀凹槽花紋5A的深度D超過氣囊主體部2膜厚Gb的0.5、或配置間隔Pg不足氣囊主體部2膜厚Gb減去環(huán)狀凹槽花紋5A深度D后所得最小厚度的0.5時,氣囊I上下方向剛性的降低易過大,從而易造成制造難度(包括成本增高),或者與其他部分的導熱性差異過大。環(huán)狀凹槽花紋5A的剖面形狀可采用各種形狀,但考慮到耐久性等觀點,優(yōu)選如上述實施方式所示,底面為圓弧狀。
      [0057]如圖9例示的實施方式所示,也可替代上述環(huán)狀條狀花紋4A,使用按照規(guī)定配置間隔Pr,以螺旋狀旋轉(zhuǎn)數(shù)圈連接而成的螺旋狀條狀花紋4B。此外,也可替代上述環(huán)狀凹槽花紋5A,使用按照規(guī)定配置間隔Pg,以螺旋狀旋轉(zhuǎn)數(shù)圈連接而成的螺旋狀條狀花紋4B。螺旋狀時的配置間隔Pr、Pg是指,旋轉(zhuǎn)I圈后相鄰部分之間的間隔。根據(jù)本實施方式,也可獲得與前述實施方式幾乎相同的效果。
      [0058]進而,設(shè)置這種螺旋狀條狀花紋4B、螺旋狀凹槽花紋5B后,在硫化工序中,經(jīng)由注入噴嘴9a往氣囊I內(nèi)部注入并填充加熱介質(zhì)H(以及加壓介質(zhì))時,加熱介質(zhì)H將沿著螺旋狀條狀花紋4B、螺旋狀凹槽花紋5B流動,從而有望獲得加熱介質(zhì)H易在氣囊I內(nèi)部攪拌的優(yōu)點。
      [0059]本實施方式中,螺旋狀條狀花紋4B往右升高,螺旋狀凹槽花紋5B往右下降,螺旋狀條狀花紋4B與螺旋狀凹槽花紋5B的傾斜方向不同,但也可螺旋狀條狀花紋4B與螺旋狀凹槽花紋5B的傾斜方向相同。此外,該螺旋狀條狀花紋4B、螺旋狀凹槽花紋5B也可分別使用與前述實施方式中說明的環(huán)狀條狀花紋4A、環(huán)狀凹槽花紋5A相同的規(guī)格以及相同的排列。
      [0060]隨著低扁平化的發(fā)展,制造輪胎剖面中內(nèi)面曲率因部位不同而出現(xiàn)較大差異的低扁平化輪胎時,能夠更有效地使用本發(fā)明。例如,本發(fā)明適合制造扁平率60%以下的輪胎。
      [0061]符號說明
      [0062]I 氣囊
      [0063]2氣囊主體部
      [0064]3a上側(cè)夾持部
      [0065]3b下側(cè)夾持部
      [0066]4A環(huán)狀條狀花紋
      [0067]4B螺旋狀條狀花紋
      [0068]4a 頭部
      [0069]4b 根部
      [0070]5A環(huán)狀凹槽花紋
      [0071]5B螺旋狀凹槽花紋
      [0072]6硫化裝置
      [0073]7中心機構(gòu)
      [0074]8a上側(cè)保持部
      [0075]Sb下側(cè)保持部
      [0076]9a注入噴嘴
      [0077]10、10a、10b、10c、1d 模具
      [0078]11主槽形成凸起
      [0079]G 生胎
      [0080]g主槽部
      [0081]Zl胎面部
      [0082]Z2胎肩部
      [0083]Z3輪胎側(cè)部
      [0084]TA胎圈部
      [0085]H加熱介質(zhì)
      【主權(quán)項】
      1.一種輪胎硫化用氣囊,其用于對模具內(nèi)以橫臥狀態(tài)安放的生胎進行硫化,其特征在于,筒狀氣囊主體部的膜厚設(shè)為固定厚度,在氣囊內(nèi)面相當于輪胎胎面部、胎肩部及胎圈部的部分,形成沿周向延伸的橡膠制條狀花紋或凹槽花紋的至少一種,所述條狀花紋為多個環(huán)狀條狀花紋、或者以螺旋狀旋轉(zhuǎn)數(shù)圈連接而成的螺旋狀條狀花紋,所述凹槽花紋為多個環(huán)狀凹槽花紋、或者以螺旋狀旋轉(zhuǎn)數(shù)圈連接而成的螺旋狀凹槽花紋。
      2.如權(quán)利要求1所述的輪胎硫化用氣囊,其特征在于,所述條狀花紋形成在所述氣囊內(nèi)面相當于輪胎胎面部的部分,所述凹槽花紋形成在所述氣囊內(nèi)面相當于輪胎胎肩部及胎圈部的部分。
      3.如權(quán)利要求2所述的輪胎硫化用氣囊,其特征在于,在所述氣囊內(nèi)面相當于輪胎胎面部的部分中,相當于輪胎主槽部的部分不形成所述條狀花紋。
      4.如權(quán)利要求2所述的輪胎硫化用氣囊,其特征在于,通過改變所述條狀花紋的剖面積或配置間隔的至少一種,使氣囊上下方向中央部的氣囊周向剛性往上下方向中心成為最大。
      5.如權(quán)利要求3所述的輪胎硫化用氣囊,其特征在于,通過改變所述條狀花紋的剖面積或配置間隔的至少一種,使除了所述氣囊內(nèi)面相當于輪胎主槽部的部分以外,所述氣囊上下方向中央部的氣囊周向剛性往上下方向中心成為最大。
      6.如權(quán)利要求4或5所述的輪胎硫化用氣囊,其特征在于,所述氣囊上下方向中央部的氣囊的周向剛性大小相對于氣囊上下方向中心呈上下對稱。
      7.如權(quán)利要求1至6中任一項所述的輪胎硫化用氣囊,其特征在于,所述條狀花紋的剖面形狀是頭部大于根部的咬邊形狀。
      8.如權(quán)利要求1至7中任一項所述的輪胎硫化用氣囊,其特征在于,所述條狀花紋的高度為所述氣囊主體部的膜厚以下,所述條狀花紋的配置間隔為氣囊主體部膜厚的0.5以上2.0以下。
      9.如權(quán)利要求1至8中任一項所述的輪胎硫化用氣囊,其特征在于,所述凹槽花紋的深度為所述氣囊主體部膜厚的0.3以上0.5以下,所述凹槽花紋的配置間隔為氣囊主體部膜厚減去凹槽花紋深度后所得最小厚度的0.5以上2.0以下。
      10.一種充氣輪胎制造方法,其使用權(quán)利要求1至9中任一項所述的輪胎硫化用氣囊硫化生胎。
      【專利摘要】本發(fā)明提供一種能夠根據(jù)要制造的輪胎中各部位內(nèi)面形狀施加適當按壓力的輪胎硫化用氣囊、以及充氣輪胎制造方法。氣囊主體部(2)的膜厚為固定厚度,在相當于輪胎胎面部(Z1)、胎肩部(Z2)及胎圈部(Z4)的氣囊(1)內(nèi)面,形成多個橡膠制環(huán)狀條狀花紋(4A)、以螺旋狀旋轉(zhuǎn)數(shù)圈連接而成的橡膠制螺旋狀條狀花紋(4B)、多個環(huán)狀凹槽花紋(5A)、或者以螺旋狀旋轉(zhuǎn)數(shù)圈連接而成的螺旋狀凹槽花紋(5B)中的任一種,將氣囊(1)插入以橫臥狀態(tài)安放在模具(10)內(nèi)的生胎(G)中并使其膨脹時,可根據(jù)胎面部(Z1)、胎肩部(Z2)及胎圈部(Z4)的內(nèi)面形狀,限制氣囊(1)的膨脹程度來按壓生胎(G)。
      【IPC分類】B29C33-02, B29D30-06, B29C35-02, B29L30-00
      【公開號】CN104755242
      【申請?zhí)枴緾N201380056329
      【發(fā)明人】佐藤元, 山村健太
      【申請人】橫濱橡膠株式會社
      【公開日】2015年7月1日
      【申請日】2013年11月11日
      【公告號】WO2014073678A1
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