專利名稱：減壓干燥裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對表面涂敷有規(guī)定溶液的基板，實施減壓干燥處理的減壓干燥裝置。
背景技術(shù)：
以往，規(guī)定的膜，例如，液晶顯示裝置的取向膜，是通過在基板上均勻涂敷形成取向膜的材料(取向膜材料)之后，把已經(jīng)涂敷的取向膜材料進行干燥而制造的。例如，已經(jīng)存在在載物臺上保持基板而涂敷取向膜材料之后，在保持基板的原來狀態(tài)的載物臺上蓋上罩來形成密封空間后，通過減壓該密封空間內(nèi)部，以進行基板的干燥處理的干燥裝置(參照專利文件1)。另外，還有液晶顯示裝置的制造方法，該方法在一個制造生產(chǎn)線上連續(xù)布置清洗基板的清洗機；實施提高基板的親水性的處理(例如，向基板照射紫外線的處理)的UV照射裝置；對基板涂敷取向膜材料的液滴噴出裝置；對基板進行干燥的干燥爐；和把已經(jīng)形成在基板上的取向膜進行研磨的研磨裝置；并在干燥爐中短時間內(nèi)使溶劑蒸發(fā)而形成取向膜(參照專利文獻2)。
特開2003-262464號公報[專利文獻2]特開2003-75795號公報。
但是，在基板上，通常，雖然以均勻的狀態(tài)來涂敷溶液，但如專利文獻1中所記載的干燥裝置，如果在腔室(氣密空間)的底面設(shè)置排氣口，利用真空泵來進行排氣而減壓腔室內(nèi)的情況下，有時存在基板的接近排氣口處產(chǎn)生氣泡，或已經(jīng)涂敷的溶液局部性地涌起的情況。在這樣的情況下，已經(jīng)形成的膜的厚度變?yōu)椴痪鶆?，而存在例如，形成不均勻的膜厚的取向膜，而成為液晶顯示裝置顯示不良的原因等問題。另外，如上述的氣泡的產(chǎn)生或局部的溶液的涌起等的問題，是基板越成為大型化越是明顯發(fā)生。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的課題，其目的在于，提供一種在表面涂敷著規(guī)定溶液的基板中，防止局部性的氣泡產(chǎn)生或局部性的溶液涌起等，而可以形成均勻厚度的膜的減壓干燥裝置。
涉及本發(fā)明的減壓干燥裝置，其特征在于，具備形成氣密的處理室的腔室；在所述腔室內(nèi)保持基板的載物臺；排氣口，其具有在所述載物臺上保持著的基板表面位置的附近，近似相同于該基板的表面位置的高度的位置或低于該基板的表面位置的位置上形成的開口部；和排氣部，其通過所述排氣口，從所述腔室排出所述處理室內(nèi)氣氛氣體而減壓所述處理室內(nèi)。另外，涉及本發(fā)明的減壓干燥裝置，使所述排氣口設(shè)在所述載物臺周圍的、對向該載物臺側(cè)面的位置。
根據(jù)這些減壓干燥裝置，設(shè)置有排氣口，其具有在載物臺上保持著的基板的表面位置的附近，近似相同于該基板的表面位置的高度的位置或低于該基板的表面位置的位置上形成的開口部；通過具有此種排氣口的開口部而進行排氣。即。例如，載物臺的形狀為具有4個邊的四角形的情況下，通過載物臺上保持著的基板表面的每一個邊對向的位置上設(shè)置的排氣口的開口部，進行排氣。從而，通過載物臺上保持著的基板表面位置的附近的、具有近似相同于基板表面位置的高度或低于基板表面位置低的位置上形成的開口部來進行排氣，所以與在腔室的底部形成排氣口的情況不同，可以防止局部性的氣泡的產(chǎn)生等。因此，可以均勻地干燥涂敷于基板上的溶液，可以高的精度來形成具有均勻膜厚的膜。
另外，涉及本發(fā)明的減壓干燥裝置，其特征在于所述開口部是沿著所述基板的邊緣部延伸的狹縫形狀。根據(jù)此減壓干燥裝置，可以均勻地排出基板表面的氣氛氣體，可以可靠地形成具有均勻膜厚的膜。


圖1是涉及實施方式的減壓干燥裝置的構(gòu)成圖。
圖2是用于說明涉及實施方式的減壓干燥裝置的排氣口的圖。
圖3是表示涉及實施方式的液晶顯示裝置制造生產(chǎn)線一例的圖。
圖4是說明涉及實施方式的液晶顯示裝置的制造工序的流程圖。
圖5是用于說明涉及實施方式的減壓干燥裝置的工作的圖。
圖6是涉及實施方式的減壓干燥裝置的其他的構(gòu)成圖。
圖中2-減壓干燥裝置，10-腔室，12-載置臺，14-蓋體，40a～40d-排氣口，100-液晶顯示裝置制造生產(chǎn)線，112-清洗裝置，114-噴出裝置，116-燒成裝置，118-研磨裝置，120-控制裝置，122-驅(qū)動裝置，P-基板，S-載物臺。
具體實施例方式
下面，結(jié)合

涉及本發(fā)明實施方式的減壓干燥裝置。圖1是涉及實施方式的減壓干燥裝置的構(gòu)成圖。減壓干燥裝置2具有容納基板P而形成氣密封閉可能的處理室的腔室(chamber)10。腔室10是由載置了保持基板P的載物臺S的矩形的載置臺12、和位于載置臺12的上方并下表面具有矩形狀開口的蓋體14所構(gòu)成。另外，載物臺S具備吸附保持機構(gòu)等的眾所周知的機構(gòu)來保持基板P的機構(gòu)。另外，在載置臺12上，如后面要敘述的圖2所示，在載物臺S的周圍設(shè)有多個排氣口，該排氣口具有沿著基板P邊緣部延伸的狹縫形狀的開口(圖1中是只表示了排氣口40a、40b)。
在蓋體14上設(shè)有使蓋體14上下運動的升降機構(gòu)18。升降機構(gòu)18具備例如，由電動機來使蓋體14升降的驅(qū)動部20和控制相應(yīng)驅(qū)動部20的控制部22。由此，蓋體14能夠上下方向移動，使蓋體14下降而形成和載置臺12變?yōu)橐惑w的處理室。
在腔室10的載置臺12上設(shè)有排出處理室內(nèi)氣氛氣體的、作為排氣部的排氣管24。排氣管24連通在以規(guī)定壓力吸引處理室內(nèi)氣氛氣體的吸氣泵26，該吸氣泵26由泵控制部28來控制其吸引力。根據(jù)所述的構(gòu)成，吸氣泵26進行工作，從排氣管24排出腔室10內(nèi)的氣氛氣體，可以使腔室10內(nèi)吸引而變?yōu)闇p壓。另外，在蓋體14的下端面，設(shè)有用于確保處理室的氣密性的O型密封圈30。
圖2是用于說明涉及本實施方式的排氣口的圖。在涉及本實施方式的減壓干燥裝置2中，如圖2(a)所示，載置在載置臺12的載物臺S的周圍，即分別對向四角形狀載物臺S所具有的每一個邊的位置，設(shè)有排氣口40a～40d。具體而言，如圖2(a)所示，對向圖2(a)中載物臺S左側(cè)邊的位置，設(shè)有排氣口40a；對向圖2(a)中載物臺S右側(cè)邊的位置，設(shè)有排氣口40b。另外，對向圖2(a)中載物臺S下側(cè)邊的位置，設(shè)有排氣口40c；對向圖2(a)中載物臺S上側(cè)邊的位置，設(shè)有排氣口40d。
另外，如圖2(b)所示，在排氣口40a上形成有狹縫形狀的開口部42a。開口部42a是在載物臺S上保持著的基板P的表面位置的附近，略相同于基板P表面位置的高度或低于基板P表面位置的位置、例如、比基板P的表面位置低于1～5mm左右的位置，沿著基板P的邊緣部延伸的形態(tài)來形成的。另外，在排氣口40b～40d中也分別在同樣的位置，形成了和形成在排氣口40a的開口部42a相同形狀的開口部。另外，在每一個排氣口40a～40d上分別連接著排氣管24，通過形成在每一個排氣口的開口部和排氣管24，由吸氣泵26來吸引的方式，排出腔室10內(nèi)的氣氛氣體。
下面，說明減壓干燥裝置2的干燥處理。另外，在下面，以減壓干燥裝置2組裝在制造液晶顯示裝置的液晶顯示裝置制造生產(chǎn)線100的情況作為例來進行說明。
圖3是包括涉及本發(fā)明的實施方式的減壓干燥裝置2的、液晶顯示裝置制造生產(chǎn)線構(gòu)成之一例的圖。如圖3所示，液晶顯示裝置制造生產(chǎn)線100由每一個工序中分別利用的清洗裝置112；噴出裝置(液滴噴出裝置)114；燒成裝置116；研磨裝置118；驅(qū)動連接每一個裝置的輸送帶BC、輸送帶BC的驅(qū)動裝置122和控制液晶顯示裝置制造生產(chǎn)線100全體的控制裝置120構(gòu)成。另外，清洗裝置112、噴出裝置114、減壓干燥裝置2、燒成裝置116和研磨裝置118，沿著輸送帶BC以規(guī)定的間隔排列而布置成一列的。
控制裝置120連接在清洗裝置112、噴出裝置114、減壓干燥裝置2、燒成裝置116、研磨裝置118和驅(qū)動裝置122。驅(qū)動裝置122根據(jù)來自控制裝置120的控制信號來驅(qū)動輸送帶BC，把液晶顯示裝置的基板(以下簡稱為「基板」)輸送到清洗裝置112、噴出裝置114、減壓干燥裝置2、燒成裝置116以及研磨裝置118。在清洗裝置112中，進行情理基板的處理；在噴出裝置114中，進行向基板上涂敷取向膜材料的處理即向基板上噴出包含取向膜材料的處理；在減壓干燥裝置2中，進行臨時干燥取向膜材料的處理。另外，在燒成裝置116中，進行燒成已經(jīng)臨時干燥的取向膜材料的處理；在研磨裝置118中，進行取向膜的研磨處理。
下面，結(jié)合圖4的流程圖，說明利用涉及實施方式的減壓干燥裝置的液晶顯示裝置制造生產(chǎn)線的液晶顯示裝置的制造處理。
首先，清洗要形成取向膜的基板(基板P)(步驟S10)。例如，利用輸送帶BC把已形成整流子電極的基板P輸送到清洗裝置112。由輸送帶BC被輸送的基板P進入到清洗裝置112內(nèi)，用堿性洗滌劑、純水等，清洗基板P后，進行規(guī)定的溫度和時間、例如、80～90℃、5～10分鐘干燥的處理。另外，進行清洗和干燥的基板P由輸送帶BC被輸送到噴出裝置114。
接著，在步驟S10中向已清洗的基板P上，涂敷取向膜材料(步驟S11)。即，首先，把輸送帶BC輸送到噴出裝置114的基板P，取進在噴出裝置114內(nèi)。在噴出裝置114中，通過噴嘴噴出容納在箱子內(nèi)的取向膜材料，而向基板P上涂敷取向膜材料。作為取向膜材料，例如，使用將固形物的聚酰亞胺溶解在γ-丁內(nèi)酯、丁基溶纖劑和N-甲醇吡咯烷酮等溶劑中的材料。接著，基板P在噴出裝置114中，以水平保持的狀態(tài)、例如放置1分鐘來進行調(diào)平。然后，從噴出裝置114移動到輸送帶BC，由輸送帶BC輸送到減壓干燥裝置2。
接著進行已涂敷在基板P的取向膜材料的臨時干燥(步驟S12)。即，由輸送帶BC輸送到減壓干燥裝置2的基板P載置在載置臺12，進入減壓干燥裝置2內(nèi)。
在此，說明減壓干燥裝置2的干燥處理。首先，基板P是從噴出裝置114通過輸送帶BC被輸送而移動到載置臺12的上方。此時，如圖5所示，由升降機構(gòu)18提升蓋體14。然后，移動到載物臺S的基板P被保持在載物臺S后，蓋體14下降而蓋體14的下端部密接在載置臺12，形成氣密的處理室。
接著，吸氣泵26進行工作，處理室內(nèi)的氣氛氣體通過排氣管24，以規(guī)定壓力開始被吸引。伴隨這些，在處理室內(nèi)形成氣流。相應(yīng)的氣流是向著每一個排氣口40a、40b、40c、40d而形成，通過形成在每一個排氣口40a、40b、40c、40d上的開口部和排氣管24來吸引腔室10內(nèi)的氣氛氣體。此時，在每一個排氣口40a、40b、40c、40d中，腔室10內(nèi)的氣氛氣體是以相同的速度被排氣。
然后，進行了規(guī)定時間的干燥后，吸氣泵26停止工作，而停止處理室內(nèi)的減壓。接著，由升降機構(gòu)18提升蓋體14(參照圖5)，開放由腔室10所形成了的處理室內(nèi)部。然后，和搬進時同樣，保持在載物臺S的基板P轉(zhuǎn)交到輸送帶BC。轉(zhuǎn)交到輸送帶BC的基板P從減壓干燥裝置2被搬出，輸送到燒成裝置116。
接著進行燒成已進行臨時干燥的取向膜材料的燒成處理(步驟S13)。即由輸送帶BC把輸送到燒成裝置116的基板P取進燒成裝置116，例如在180～250℃中進行燒成。另外，已進行燒成而形成取向膜的基板P移動到輸送帶BC，由輸送帶BC輸送到研磨裝置118。
接著，進行已形成在基板P的取向膜的研磨處理(步驟S14)。即，把由輸送帶BC輸送到研磨裝置118的基板P，取進研磨裝置118內(nèi)，通過利用布擦拭形成在基板P上的取向膜，實施研磨處理。另外，對取向膜實施研磨處理之后，基板P被移動到輸送帶BC，由輸送帶BC容納在省略圖示的基板容納箱子等中。另外，容納在省略圖示的基板容納箱子的基板P在省略圖示的組裝裝置中，粘接在已形成濾色器、黑底(black matrix)、上面涂層膜、共同電極和取向膜的其他基板。然后，在互相粘接在一起的基板之間，通過注入液晶的而制造出液晶顯示裝置。
涉及本發(fā)明實施方式的減壓干燥裝置，在對向保持基板的載物臺S每一個邊的位置上形成著排氣口，在每一個排氣口上，基板P表面位置的附近的、略相同于基板P表面位置的高度、或低于基板P表面位置的位置上，形成了開口部。從而，通過從基板P的每一個邊以均勻的速度來進行排氣，例如，與在腔室底面的中央部設(shè)置排氣口而進行排氣的情況不同，基板表面的干燥速度可以保持相同。因此，可以防止局部性的氣泡的產(chǎn)生和局部性的溶液的涌起等，可以使所形成的膜的厚度均勻。
另外，涉及本發(fā)明實施方式的減壓干燥裝置，其形成在排氣口的開口部成為沿著基板P的邊緣部延伸的狹縫形狀。從而，可以沿著基板P的邊緣部吸引保持在載物臺S上的基板P表面的氣氛氣體而排出氣體，所以基板P表面的干燥速度保持均勻，可以形成高精度、具有均勻膜厚的膜。
另外，在涉及上述實施方式的減壓干燥裝置中，雖然制造液晶顯示裝置的情況作為例來說明的，但也可以應(yīng)用在制造其他產(chǎn)品的情況。例如，可以利用在濾色器、上面涂層(over coat)、有機EL、半導(dǎo)體元件等的制造工序中。
另外，在涉及上述實施方式的減壓干燥裝置中，對向四角形狀的載物臺的每一個邊的位置上設(shè)置有排氣口的情況為例進行了說明，但是，排氣口的位置不是限定在對向每一個邊的位置。例如，也可以設(shè)在對向作為載物臺四角落的位置。
另外，如圖6所示，也可以在載物臺S使形成狹縫形狀的開口部50。即，由于只要設(shè)置具有作為保持在載物臺S的基板表面位置的、低于基板表面位置形成的開口部就可以，所以，例如如圖6所示，也可以構(gòu)成為在載物臺S形成狹縫形狀的開口部50，載物臺S和排氣口成為一體。
權(quán)利要求
1.一種減壓干燥裝置，其特征在于，具備形成氣密的處理室的腔室；在所述腔室內(nèi)保持基板的載物臺；排氣口，其具有在所述載物臺上保持著的基板表面位置的附近，近似相同于該基板的表面位置的高度的位置或低于該基板的表面位置的位置上形成的開口部；和排氣部，其通過所述排氣口，從所述腔室排出所述處理室內(nèi)氣氛氣體而減壓所述處理室內(nèi)部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減壓干燥裝置，其特征在于使所述排氣口設(shè)在所述載物臺周圍的、對向該載物臺側(cè)面的位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的減壓干燥裝置，其特征在于所述開口部是沿著所述基板的邊緣部延伸的狹縫形狀。
全文摘要
本發(fā)明提供在基板表面上可以形成均勻厚度膜的減壓干燥裝置。由載置臺(12)和上下運動可能的蓋體(14)來形成容納基板P的氣密封閉可能的腔室(10)。在載置臺(12)的底部設(shè)置排氣管(24)，使腔室(10)減壓可能。另外，在載置臺(12)上載置了保持基板(P)的載物臺(S)，在載物臺(S)的周圍的基板(P)表面位置的附近，在略相同于該基板P的表面位置的高度或低于基板(P)的表面位置的位置形成著排氣口(40a、40b)，該開口部上形成了沿著基板(P)的邊緣部延伸的狹縫形狀的開口部。腔室(10)內(nèi)的氣氛氣體，由吸氣泵(26)通過形成在每一個排氣口的開口部和排氣管(24)吸引，并在每一個排氣口以相同的排氣速度來排出。
文檔編號F26B5/04GK1781614SQ20051012546
公開日2006年6月7日 申請日期2005年11月17日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月29日
發(fā)明者臼井隆寬 申請人:精工愛普生株式會社