本實(shí)用新型涉及測(cè)量?jī)x器技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種定位載物臺(tái)及非接觸式測(cè)量?jī)x。

背景技術(shù)：

非接觸式三維光學(xué)測(cè)量?jī)x具有高效率、無破壞性及工作距離大等優(yōu)點(diǎn)，成為對(duì)光學(xué)元件等產(chǎn)品進(jìn)行測(cè)量的主要工具。

具體在測(cè)量時(shí)，由操作人員將待測(cè)元件放置在非接觸式三維光學(xué)測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上，并通過編寫測(cè)試程序控制測(cè)量?jī)x的鏡頭對(duì)準(zhǔn)待測(cè)元件，對(duì)待測(cè)元件進(jìn)行測(cè)量，當(dāng)該待測(cè)元件測(cè)量完畢后，再由操作人員將該測(cè)量元件取下，并將另一個(gè)相同形狀的待測(cè)元件放置在原待測(cè)元件所放置的位置上，通過鏡頭對(duì)該另一個(gè)待測(cè)元件進(jìn)行測(cè)量，具體地，操作人員必須依次將其它待測(cè)元件放置在第一個(gè)待測(cè)元件所處的位置上，測(cè)量?jī)x的鏡頭才能夠抓取到其它待測(cè)元件的特征輪廓進(jìn)行測(cè)量，以此類推，直至所有元件測(cè)量完畢。

但是，由于現(xiàn)有測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)為一光滑玻璃板，其上沒有任何定位標(biāo)志及部件，操作人員須憑肉眼觀察及記憶將下一個(gè)待測(cè)元件放置在原待測(cè)元件所放置的位置上進(jìn)行測(cè)量，因此，極易將待測(cè)元件的位置放偏，使測(cè)量?jī)x不能抓取到當(dāng)前待測(cè)元件的外形輪廓而不能正常工作。而且，整個(gè)的操作過程中，均須操作人員手工多次取放待測(cè)元件，因此，操作人員的手易碰觸到鏡頭等部件而對(duì)測(cè)量?jī)x造成損壞。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種定位載物臺(tái)及非接觸式測(cè)量?jī)x，主要目的是避免待測(cè)元件的位置放偏，以保證測(cè)量?jī)x能夠正常工作，及避免在操作過程中碰觸到測(cè)量?jī)x的鏡頭等部件，以防止對(duì)測(cè)量?jī)x造成損壞。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型主要提供如下技術(shù)方案：

一方面，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種定位載物臺(tái)，用于非接觸式測(cè)量?jī)x，所述非接觸式測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上設(shè)置有第一定位部，包括：

放置平臺(tái)，用于放置待測(cè)元件，所述放置平臺(tái)還用于放置在所述測(cè)量平臺(tái)上且與所述第一定位部抵接；

第二定位部，設(shè)置于所述放置平臺(tái)上，用于將所述待測(cè)元件定位于所述放置平臺(tái)上。

具體地，所述放置平臺(tái)包括第一表面，所述第一表面用于放置所述待測(cè)元件；

所述第二定位部包括多個(gè)定位柱，每個(gè)所述定位柱的一端與所述第一表面連接，多個(gè)所述定位柱沿軌跡分布，所述軌跡的形狀與所述待測(cè)元件的外輪廓形狀相同，多個(gè)所述定位柱圍成限位空間，所述限位空間用于容納所述待測(cè)元件并限制所述待測(cè)元件在所述第一表面上的位置。

具體地，每個(gè)所述定位柱為圓柱體結(jié)構(gòu)。

具體地，所述第一表面上設(shè)置有第一凹槽，所述第一凹槽位于所述限位空間內(nèi)，所述第一凹槽的槽口面積小于所述待測(cè)元件的底面面積。

具體地，多個(gè)所述定位柱取為定位柱組，所述第二定位部包括多個(gè)所述定位柱組，且多個(gè)所述定位柱組陣列排布于所述第一表面；

所述第一凹槽的數(shù)量與所述定位柱組的數(shù)量相同，多個(gè)所述第一凹槽陣列排布于所述第一表面。

具體地，所述第一表面上設(shè)置有多個(gè)定位槽，每個(gè)所述定位槽與每個(gè)所述定位柱相對(duì)應(yīng)，每個(gè)所述定位槽的內(nèi)徑與每個(gè)所述定位柱的外徑相適配，每個(gè)所述定位柱的一端插設(shè)于每個(gè)所述定位槽內(nèi)。

具體地，所述放置平臺(tái)還包括第二表面，所述第二表面與所述第一表面相背，所述第二表面上設(shè)置有多個(gè)通孔，每個(gè)所述通孔貫穿所述第二表面和所述定位槽的槽底面，每個(gè)所述通孔的內(nèi)徑小于每個(gè)所述定位槽的內(nèi)徑。

具體地，所述放置平臺(tái)還包括連接所述第一表面和所述第二表面相對(duì)端的側(cè)壁；

所述側(cè)壁上設(shè)置有第二凹槽。

另一方面，本實(shí)用新型實(shí)施例還提供一種非接觸式測(cè)量?jī)x，包括：

測(cè)量平臺(tái)和上述的定位載物臺(tái)；

所述放置平臺(tái)放置于所述測(cè)量平臺(tái)上，所述放置平臺(tái)與所述第一定位部抵接。

具體地，所述第一定位部包括第一定位塊和第二定位塊，所述第一定位塊設(shè)置于所述測(cè)量平臺(tái)的第一側(cè)，所述第二定位塊設(shè)置于所述測(cè)量平臺(tái)的第二側(cè)；

所述放置平臺(tái)的端面與所述第一定位塊和所述第二定位塊抵接；

所述非接觸式測(cè)量?jī)x還包括鏡頭，所述第一側(cè)為與所述鏡頭相對(duì)的一側(cè)，所述第二側(cè)為與所述第一側(cè)相鄰的一側(cè)。

借由上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型定位載物臺(tái)及非接觸式測(cè)量?jī)x至少具有以下有益效果：

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的技術(shù)方案，在定位載物臺(tái)的放置平臺(tái)上設(shè)置有用于定位待測(cè)元件的第二定位部，保證了不同待測(cè)元件在放置平臺(tái)上所處的位置一致，而且，非接觸式測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上設(shè)置有第一定位部，保證了每次定位載物臺(tái)重新放置在測(cè)量平臺(tái)上后，放置平臺(tái)在測(cè)量平臺(tái)上的位置一致，即通過定位載物臺(tái)的設(shè)置，確保了多個(gè)待測(cè)元件均會(huì)位于測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上的同一位置，從而使得測(cè)量?jī)x能夠抓取每個(gè)待測(cè)元件的外形輪廓。因此，操作人員只需交替地將多個(gè)待測(cè)元件放置在定位載物臺(tái)的放置平臺(tái)上，再交替地將定位載物臺(tái)放置在測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上，即可保證測(cè)量?jī)x不間斷的正常工作。同時(shí)，由于多個(gè)待測(cè)元件均是取放于定位載物臺(tái)，而不會(huì)在測(cè)量?jī)x上取放待測(cè)元件，避免了操作人員的手碰觸到測(cè)量?jī)x的鏡頭等部件，從而避免了對(duì)測(cè)量?jī)x造成損壞。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種定位載物臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1中A-A線的剖視圖；

圖3為圖1所示定位載物臺(tái)的側(cè)視圖；

圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種非接觸式測(cè)量?jī)x的局部結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定實(shí)用新型目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本實(shí)用新型申請(qǐng)的定位載物臺(tái)及非接觸式測(cè)量?jī)x的具體實(shí)施方式、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說明如后。在下述說明中，不同的“一實(shí)施例”或“實(shí)施例”指的不一定是同一實(shí)施例。此外，一或多個(gè)實(shí)施例中的特定特征、結(jié)構(gòu)、或特點(diǎn)可由任何合適形式組合。

如圖1所示，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種定位載物臺(tái)，用于非接觸式測(cè)量?jī)x，該非接觸式測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上設(shè)置有第一定位部，該定位載物臺(tái)包括放置平臺(tái)1，其可以為長方體結(jié)構(gòu)，用于放置待測(cè)元件，該放置平臺(tái)1還用于放置在測(cè)量平臺(tái)上且與第一定位部抵接；第二定位部，設(shè)置于放置平臺(tái)1上，用于將待測(cè)元件定位于放置平臺(tái)1上。

該定位載物臺(tái)，放置平臺(tái)1用于放置待測(cè)元件，第二定位部可以對(duì)待測(cè)元件進(jìn)行定位，使待測(cè)元件在放置平臺(tái)1上的位置不變。而且，第一定位部可以對(duì)放置在測(cè)量平臺(tái)上的定位載物臺(tái)進(jìn)行定位，使放置平臺(tái)1在測(cè)量平臺(tái)上的位置不變。當(dāng)需要對(duì)多個(gè)待測(cè)元件進(jìn)行測(cè)量時(shí)，操作人員可以首先將定位載物臺(tái)從測(cè)量?jī)x上取下，并將一待測(cè)元件放置在放置平臺(tái)1上，且通過第二定位部對(duì)待測(cè)元件進(jìn)行定位，然后將載有待測(cè)元件的定位載物臺(tái)放置在測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上，并將放置平臺(tái)1與第一定位部抵接，以通過第一定位部對(duì)定位載物臺(tái)進(jìn)行定位，此時(shí)，可以編寫測(cè)試程序，使測(cè)量?jī)x對(duì)待測(cè)元件的外輪廓進(jìn)行抓取并測(cè)量，待該待測(cè)元件測(cè)量完畢后，由操作人員取下定位載物臺(tái)，然后將已測(cè)量完畢的元件取下，再將下一個(gè)待測(cè)元件放置在放置平臺(tái)1上，并通過第二定位部對(duì)該待測(cè)元件進(jìn)行定位，使該待測(cè)元件在放置平臺(tái)1上所處的位置與已測(cè)量完畢的元件所處的位置一致，再將載有待測(cè)元件的定位載物臺(tái)放置在測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上，并將放置平臺(tái)1與第一定位部抵接，以通過第一定位部對(duì)定位載物臺(tái)進(jìn)行定位，使定位載物臺(tái)在測(cè)量平臺(tái)上所述處的位置與上一次定位載物臺(tái)在測(cè)量平臺(tái)上所處的位置一致，此時(shí)，編寫測(cè)試程序，使測(cè)量?jī)x對(duì)該待測(cè)元件的外輪廓進(jìn)行抓取并測(cè)量，以此類推，直至將所有待測(cè)元件全部測(cè)量完畢。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的定位載物臺(tái)，放置平臺(tái)上設(shè)置有用于定位待測(cè)元件的第二定位部，保證了不同待測(cè)元件在放置平臺(tái)上所處的位置一致，而且，非接觸式測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上設(shè)置有第一定位部，保證了每次定位載物臺(tái)重新放置在測(cè)量平臺(tái)上后，放置平臺(tái)在測(cè)量平臺(tái)上的位置一致，即通過定位載物臺(tái)的設(shè)置，確保了多個(gè)待測(cè)元件均會(huì)位于測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上的同一位置，從而使得測(cè)量?jī)x能夠抓取每個(gè)待測(cè)元件的外形輪廓。因此，操作人員只需交替地將多個(gè)待測(cè)元件放置在定位載物臺(tái)的放置平臺(tái)上，再交替地將定位載物臺(tái)放置在測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上，即可保證測(cè)量?jī)x不間斷的正常工作。同時(shí)，由于多個(gè)待測(cè)元件均是取放于定位載物臺(tái)，而不會(huì)在測(cè)量?jī)x上取放待測(cè)元件，避免了操作人員的手碰觸到測(cè)量?jī)x的鏡頭等部件，從而避免了對(duì)測(cè)量?jī)x造成損壞。

具體地，參見圖1或圖2，放置平臺(tái)1包括第一表面11，第一表面11用于放置待測(cè)元件；第二定位部包括多個(gè)定位柱2，每個(gè)定位柱2的一端與第一表面11連接，多個(gè)定位柱2沿軌跡分布，軌跡的形狀與待測(cè)元件的外輪廓形狀相同，多個(gè)定位柱2圍成限位空間，限位空間用于容納待測(cè)元件并限制待測(cè)元件在第一表面11上的位置。其中，第二定位部的結(jié)構(gòu)有多種，只要可以實(shí)現(xiàn)將待測(cè)元件的位置限制在第一表面11上的某個(gè)位置不變即可，例如，可以在第一表面11上設(shè)置與待測(cè)元件的輪廓形狀相同的凹槽，可以將待測(cè)元件放置在凹槽內(nèi)，以限制待測(cè)元件的位置。由于大部分的待測(cè)元件均為用于精密儀器的光學(xué)元件，這便要求光學(xué)元件必須具有較高的表面質(zhì)量，為了避免在對(duì)光學(xué)元件進(jìn)行測(cè)量的過程中，對(duì)光學(xué)元件的表面造成劃傷，本實(shí)用新型實(shí)施例將第二定位部?jī)?yōu)選為包括多個(gè)定位柱2，且該多個(gè)定位柱2圍成用于容納待測(cè)元件的限位空間，減少了第二定位部與待測(cè)元件的接觸面積，降低了對(duì)待測(cè)元件表面造成劃傷的風(fēng)險(xiǎn)，保證了測(cè)量?jī)x的測(cè)量準(zhǔn)確度。這里需要說明的是：具體在實(shí)施時(shí)，定位柱2的高度可以根據(jù)待測(cè)元件的厚度進(jìn)行調(diào)節(jié)，既保證操作人員在移動(dòng)該定位載物臺(tái)時(shí)，待測(cè)元件不會(huì)發(fā)生傾倒及滾落等現(xiàn)象，又盡量減少每個(gè)定位柱2與待測(cè)元件的接觸面積，以盡量降低對(duì)待測(cè)元件表面造成損壞的風(fēng)險(xiǎn)。多個(gè)定位柱2沿與待測(cè)元件的外輪廓形狀相同的軌跡形狀分布，即定位柱2的數(shù)量及在第一表面11上的分布情況可以根據(jù)待測(cè)元件的外輪廓形狀來定，這里不做限定。其中，應(yīng)以最少數(shù)量的定位柱2圍成限位空間，以減少第二定位部與待測(cè)元件的接觸面積，例如，當(dāng)待測(cè)元件的外輪廓形狀為圓形，定位柱2的數(shù)量可以為3個(gè)，并以連線呈三角形布置等。

具體地，每個(gè)定位柱2為圓柱體結(jié)構(gòu)。通過將每個(gè)定位柱2設(shè)計(jì)為圓柱體結(jié)構(gòu)，可以使待測(cè)元件的外周面與每個(gè)定位柱2為線接觸，進(jìn)一步減少了第二定位部與待測(cè)元件的接觸面積，進(jìn)一步降低了對(duì)待測(cè)元件表面造成損傷的風(fēng)險(xiǎn)，進(jìn)一步保證了測(cè)量?jī)x的測(cè)量準(zhǔn)確度。

具體地，參見圖1或圖2，第一表面11上設(shè)置有第一凹槽111，第一凹槽111位于限位空間內(nèi)，第一凹槽111的槽口面積小于待測(cè)元件的底面面積。通過在第一表面11上設(shè)置位于限位空間內(nèi)的第一凹槽111，且第一凹槽111的槽口面積小于待測(cè)元件的底面面積，使得待測(cè)元件容納在限位空間內(nèi)時(shí)，其底面與第一凹槽111的外邊緣接觸，而不是與位于限位空間內(nèi)的整個(gè)第一表面11部分接觸，進(jìn)一步減少了第二定位部與待測(cè)元件的接觸面積，進(jìn)一步降低了對(duì)待測(cè)元件表面造成損傷的風(fēng)險(xiǎn)，進(jìn)一步保證了測(cè)量?jī)x的測(cè)量準(zhǔn)確度。具體在實(shí)施時(shí)，第一凹槽111亦可以為通孔，其輪廓形狀可以根據(jù)待測(cè)元件的外輪廓形狀而定，這里不做限定。需要注意的是，加工第一凹槽111時(shí)，應(yīng)在第一凹槽111的邊緣處倒角以去除毛刺，以放置加工毛刺劃傷待測(cè)元件。

具體地，多個(gè)定位柱2取為定位柱組，第二定位部包括多個(gè)定位柱組，且多個(gè)定位柱組陣列排布于第一表面11；第一凹槽111的數(shù)量與定位柱組的數(shù)量相同，多個(gè)第一凹槽111陣列排布于第一表面11。通過將定位柱組和第一凹槽111的數(shù)量均設(shè)計(jì)為多個(gè)且數(shù)量相同，使得該定位載物臺(tái)一次可以承載多個(gè)待測(cè)元件，避免了多次取放待測(cè)元件和定位載物臺(tái)，提高了測(cè)量效率。而且，多個(gè)定位柱組和第一凹槽111均陣列排布在第一表面11上，使得放置在該定位載物臺(tái)上的多個(gè)待測(cè)元件之間的距離相同，這樣的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，便于測(cè)量?jī)x的程序編寫，即只需編寫第一個(gè)待測(cè)元件的測(cè)試程序，再將該測(cè)試程序進(jìn)行陣列，便得到了多個(gè)待測(cè)元件的測(cè)試程序，降低了操作人員的勞動(dòng)強(qiáng)度，進(jìn)一步提高了測(cè)量效率。

具體地，參見圖2，第一表面11上設(shè)置有多個(gè)定位槽112，每個(gè)定位槽112與每個(gè)定位柱2相對(duì)應(yīng)，每個(gè)定位槽112的內(nèi)徑與每個(gè)述定位柱2的外徑相適配，每個(gè)定位柱2的一端插設(shè)于每個(gè)定位槽112內(nèi)。此處的“相適配”可以解釋為，每個(gè)定位柱2的一端既可以在外力作用下插入每個(gè)定位槽112，又可以在外力作用下脫離滅個(gè)定位槽112，即定位柱2與第一表面11的連接方式為通過在第一表面11上設(shè)置多個(gè)內(nèi)徑與定位柱2的外徑相適配的定位槽112，使每個(gè)定位柱2的一端插設(shè)在每個(gè)定位槽112內(nèi)，以實(shí)現(xiàn)多個(gè)定位柱2設(shè)置在第一表面11上的方式，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便。

具體地，參見圖2，放置平臺(tái)1還包括第二表面12，第二表面12與第一表面11相背，第二表面12上設(shè)置有多個(gè)通孔121，每個(gè)通孔121貫穿第二表面12和定位槽112的槽底面，每個(gè)通孔121的內(nèi)徑小于每個(gè)定位槽112的內(nèi)徑。通過在放置平臺(tái)1的第二表面12上設(shè)置多個(gè)貫穿第二表面12和多個(gè)定位槽112槽底面的通孔121，實(shí)現(xiàn)當(dāng)需要拆卸定位柱2時(shí)，操作人員可以將工具插入每個(gè)通孔121對(duì)位于每個(gè)定位槽112中的定位柱2施加一個(gè)向上的力，使定位柱2容易地脫離定位槽112，使定位柱2的拆卸更方便。

具體地，參見圖1和圖3，放置平臺(tái)1還包括連接第一表面11和第二表面12相對(duì)端的側(cè)壁13；側(cè)壁13上設(shè)置有第二凹槽122。通過在側(cè)壁13上設(shè)置第二凹槽122，使得該第二凹槽122形成扣手，當(dāng)操作人員欲將該定位載物臺(tái)從測(cè)量平臺(tái)上取下時(shí)，可以手扣該第二凹槽122，再將整個(gè)定位載物臺(tái)取下，便于取放該定位載物臺(tái)時(shí)借力。其中，該第二凹槽122除了為設(shè)置在側(cè)壁13上的結(jié)構(gòu)形式以外，該第二凹槽122還可以為設(shè)置在第二表面12并貫穿側(cè)壁13的結(jié)構(gòu)形式，在該結(jié)構(gòu)形式中，第二凹槽122可以沿放置平臺(tái)1的長度方向貫穿整個(gè)側(cè)壁13，亦可以沿放置平臺(tái)1的長度方向貫穿部分側(cè)壁13，這里對(duì)第二凹槽122的具體結(jié)構(gòu)形式不做限定。

如圖4所示，本實(shí)用新型還提供了一種非接觸式測(cè)量?jī)x，包括測(cè)量平臺(tái)3和上述的定位載物臺(tái)；放置平臺(tái)1放置于測(cè)量平臺(tái)3上，放置平臺(tái)1與第二定位部抵接。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的非接觸式測(cè)量?jī)x，包括定位載物臺(tái)，定位載物臺(tái)的放置平臺(tái)上設(shè)置有用于定位待測(cè)元件的第二定位部，保證了不同待測(cè)元件在放置平臺(tái)上所處的位置一致，而且，非接觸式測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上設(shè)置有第一定位部，保證了每次定位載物臺(tái)重新放置在測(cè)量平臺(tái)上后，放置平臺(tái)在測(cè)量平臺(tái)上的位置一致，即通過定位載物臺(tái)的設(shè)置，確保了多個(gè)待測(cè)元件均會(huì)位于測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上的同一位置，從而使得測(cè)量?jī)x能夠抓取每個(gè)待測(cè)元件的外形輪廓。因此，操作人員只需交替地將多個(gè)待測(cè)元件放置在定位載物臺(tái)的放置平臺(tái)上，再交替地將定位載物臺(tái)放置在測(cè)量?jī)x的測(cè)量平臺(tái)上，即可保證測(cè)量?jī)x不間斷的正常工作。同時(shí)，由于多個(gè)待測(cè)元件均是取放于定位載物臺(tái)，而不會(huì)在測(cè)量?jī)x上取放待測(cè)元件，避免了操作人員的手碰觸到測(cè)量?jī)x的鏡頭等部件，從而避免了對(duì)測(cè)量?jī)x造成損壞。

具體地，參見圖4，第一定位部包括第一定位塊311和第二定位塊321，第一定位塊311設(shè)置于測(cè)量平臺(tái)3的第一側(cè)31，第二定位塊321設(shè)置于測(cè)量平臺(tái)3的第二側(cè)32；放置平臺(tái)1的端面與第一定位塊311和第二定位塊321抵接；非接觸式測(cè)量?jī)x還包括鏡頭(圖中未示出)，第一側(cè)31為與鏡頭相對(duì)的一側(cè)，第二側(cè)32為與所述第一側(cè)31相鄰的一側(cè)。第一定位塊311和第二定位塊321分別設(shè)置在測(cè)量平臺(tái)3的第一側(cè)31和第二側(cè)32，且所述的第一側(cè)31與測(cè)量?jī)x相對(duì)，第二側(cè)32與第一側(cè)31相鄰，使得當(dāng)定位載物臺(tái)放置在測(cè)量平臺(tái)3上時(shí)，放置平臺(tái)1的端面與第一定位塊311和第二定位塊321抵接，即放置平臺(tái)1的一角被兩個(gè)定位塊固定，很好地限定了定位載物臺(tái)在測(cè)量平臺(tái)3上的位置。其中，如前所述，在放置平臺(tái)1的第二表面12上設(shè)置有第二凹槽122，該第二凹槽122用作扣手，具體地，該第二凹槽122可以位于第二側(cè)32的相對(duì)側(cè)，便于操作人員在操作時(shí)取放定位載物臺(tái)。

以上所述，僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。