本實(shí)用新型涉及硅片生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種硅片蝕刻裝置。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有帶水膜裝置的后清洗，在硅片覆蓋完水膜后進(jìn)入的刻蝕槽內(nèi)的滾輪都是帶O型圈式的滾輪，通過(guò)調(diào)整各道滾輪之間的水平，來(lái)保證片子上水膜的完善，來(lái)達(dá)到去刻蝕線的目的，如圖1所示，現(xiàn)有蝕刻槽內(nèi)滾輪上的凸環(huán)與硅片接觸輸送，由于凸環(huán)都是一直線設(shè)置的，硅片與凸環(huán)接觸的地方無(wú)法進(jìn)行清洗，嚴(yán)重時(shí)需要進(jìn)行返工，降低了工作效率，增加了生產(chǎn)成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是：為了解決蝕刻槽內(nèi)滾輪上的凸環(huán)與硅片接觸輸送，由于凸環(huán)都是一直線設(shè)置的，硅片與凸環(huán)接觸的地方無(wú)法進(jìn)行清洗，嚴(yán)重時(shí)需要進(jìn)行返工，降低了工作效率，增加了生產(chǎn)成本的問(wèn)題，現(xiàn)提供了一種硅片蝕刻裝置。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：一種硅片蝕刻裝置，包括蝕刻槽，所述蝕刻槽內(nèi)設(shè)有若干用于輸送硅片的滾輪組，所述滾輪組沿其軸向設(shè)有若干凸環(huán)組，每個(gè)滾輪組包括第一滾輪、第二滾輪和第三滾輪，所述凸環(huán)組包括設(shè)置在第一滾輪的若干第一凸環(huán)、設(shè)置在第二滾輪的若干第二凸環(huán)及設(shè)置在第三滾輪的若干第三凸環(huán)，所述第一凸環(huán)、第二凸環(huán)及第三凸環(huán)相互水平設(shè)置，所述凸環(huán)組的第一凸環(huán)的數(shù)量大于第二凸環(huán)的數(shù)量，且第一凸環(huán)與第二凸環(huán)一一對(duì)應(yīng)，所述凸環(huán)組的第一凸環(huán)的數(shù)量大于第三凸環(huán)的數(shù)量，且第三凸環(huán)與第一凸環(huán)相互交錯(cuò)設(shè)置。通過(guò)在蝕刻槽內(nèi)滾輪組上的凸環(huán)組對(duì)硅片進(jìn)行運(yùn)輸，由于凸環(huán)組的第一凸環(huán)的數(shù)量大于第二凸環(huán)的數(shù)量，且第一凸環(huán)與第二凸環(huán)一一對(duì)應(yīng)，第一凸環(huán)和第二凸環(huán)只是數(shù)量的差別，由于凸環(huán)組的第一凸環(huán)的數(shù)量大于第三凸環(huán)的數(shù)量，且第三凸環(huán)與第一凸環(huán)相互交錯(cuò)設(shè)置，使得第三凸環(huán)在硅片上的行走路徑不與第一凸環(huán)的行走路徑重合，通過(guò)第一凸環(huán)與第二凸環(huán)數(shù)量差及第一凸環(huán)與第三凸環(huán)交錯(cuò)設(shè)置，使得第一凸環(huán)和第二凸環(huán)及第三凸環(huán)在硅片上的行走路徑能夠被清洗到。

進(jìn)一步地，所述凸環(huán)組沿滾輪組軸向等間距分布。

本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型硅片蝕刻裝置在使用時(shí)，通過(guò)在蝕刻槽內(nèi)滾輪組上的凸環(huán)組對(duì)硅片進(jìn)行運(yùn)輸，由于凸環(huán)組的第一凸環(huán)的數(shù)量大于第二凸環(huán)的數(shù)量，且第一凸環(huán)與第二凸環(huán)一一對(duì)應(yīng)，第一凸環(huán)和第二凸環(huán)只是數(shù)量的差別，由于凸環(huán)組的第一凸環(huán)的數(shù)量大于第三凸環(huán)的數(shù)量，且第三凸環(huán)與第一凸環(huán)相互交錯(cuò)設(shè)置，使得第三凸環(huán)在硅片上的行走路徑不與第凸環(huán)的行走路徑重合，通過(guò)第一凸環(huán)與第二凸環(huán)數(shù)量差及第一凸環(huán)與第三凸環(huán)交錯(cuò)設(shè)置，使得第一凸環(huán)和第二凸環(huán)及第三凸環(huán)在硅片上的行走路徑能夠被清洗到，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，降低了返工概率，降低了生產(chǎn)成本，能夠有效對(duì)硅片進(jìn)行清洗，避免了蝕刻槽內(nèi)滾輪上的凸環(huán)與硅片接觸輸送，由于凸環(huán)都是一直線設(shè)置的，硅片與凸環(huán)接觸的地方無(wú)法進(jìn)行清洗，嚴(yán)重時(shí)需要進(jìn)行返工，降低了工作效率，增加了生產(chǎn)成本的問(wèn)題。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。

圖1是原有硅片蝕刻裝置的主視圖；

圖2是本實(shí)用新型硅片蝕刻裝置的主視圖；

圖3是中實(shí)用新型硅片蝕刻裝置中凸環(huán)組的主視圖。

圖中：1、蝕刻槽，2、第一滾輪，3、第二滾輪，4、第三滾輪，5、第一凸環(huán)，6、第二凸環(huán)，7、第三凸環(huán)。

具體實(shí)施方式

現(xiàn)在結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。這些附圖均為簡(jiǎn)化的示意圖，僅以示意方式說(shuō)明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成。

實(shí)施例

如圖2和3所示，一種硅片蝕刻裝置，包括蝕刻槽1，所述蝕刻槽1內(nèi)設(shè)有三組用于輸送硅片的滾輪組，所述滾輪組沿其軸向設(shè)有三組凸環(huán)組，每個(gè)滾輪組包括第一滾輪2、第二滾輪3和第三滾輪4，所述凸環(huán)組包括設(shè)置在第一滾輪2的四個(gè)第一凸環(huán)5、設(shè)置在第二滾輪3的兩個(gè)第二凸環(huán)6及設(shè)置在第三滾輪4的三個(gè)第三凸環(huán)7，所述第一凸環(huán)5、第二凸環(huán)6及第三凸環(huán)7相互水平設(shè)置，所述凸環(huán)組的兩個(gè)第二凸環(huán)6分別與四個(gè)第一凸環(huán)5其中的兩個(gè)相對(duì)應(yīng)，所述凸環(huán)組三個(gè)第三凸環(huán)7與四個(gè)第一凸環(huán)5相互交錯(cuò)設(shè)置。所述凸環(huán)組沿滾輪組軸向等間距分布。

上述硅片蝕刻裝置在使用時(shí)，硅片首先接觸到第一滾輪2上的第一凸環(huán)5，在第一滾輪2的帶動(dòng)下與第二滾輪3上的第二凸環(huán)6接觸，由于凸環(huán)組的第一凸環(huán)5的數(shù)量大于第二凸環(huán)6的數(shù)量，且第一凸環(huán)5與第二凸環(huán)6一一對(duì)應(yīng)，第一個(gè)滾輪上第一凸環(huán)5在硅片上走過(guò)的路徑在第二滾輪3上的第二凸環(huán)6其中一部分是不會(huì)在硅片上走到，就會(huì)使得硅板在第一滾輪2上第一凸環(huán)5走的路徑進(jìn)行清洗，再由于凸環(huán)組的第一凸環(huán)5的數(shù)量大于第三凸環(huán)7的數(shù)量，且第三凸環(huán)7與第一凸環(huán)5相互交錯(cuò)設(shè)置，所以第二凸環(huán)6與第一凸環(huán)5也是相互交錯(cuò)設(shè)置，就會(huì)使第一凸環(huán)5和第二凸環(huán)6在硅片上的行走路徑到第三凸環(huán)7時(shí)就不會(huì)在上面走，第一凸環(huán)5與第三凸環(huán)7行走路徑相互錯(cuò)開，就能對(duì)硅片進(jìn)行清洗，降低了返工的概率，降低了生產(chǎn)成本。

上述依據(jù)本實(shí)用新型的理想實(shí)施例為啟示，通過(guò)上述的說(shuō)明內(nèi)容，相關(guān)工作人員完全可以在不偏離本項(xiàng)實(shí)用新型技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項(xiàng)實(shí)用新型的技術(shù)性范圍并不局限于說(shuō)明書上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來(lái)確定其技術(shù)性范圍。