1.一種硅片蝕刻裝置，包括蝕刻槽(1)，其特征在于：所述蝕刻槽(1)內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)有若干用于輸送硅片的滾輪組，所述滾輪組沿其軸向設(shè)有若干凸環(huán)組，每個(gè)滾輪組包括第一滾輪(2)、第二滾輪(3)和第三滾輪(4)，所述凸環(huán)組包括設(shè)置在第一滾輪(2)的若干第一凸環(huán)(5)、設(shè)置在第二滾輪(3)的若干第二凸環(huán)(6)及設(shè)置在第三滾輪(4)的若干第三凸環(huán)(7)，所述第一凸環(huán)(5)、第二凸環(huán)(6)及第三凸環(huán)(7)相互水平設(shè)置，所述凸環(huán)組的第一凸環(huán)(5)的數(shù)量大于第二凸環(huán)(6)的數(shù)量，且第一凸環(huán)(5)與第二凸環(huán)(6)一一對(duì)應(yīng)，所述凸環(huán)組的第一凸環(huán)(5)的數(shù)量大于第三凸環(huán)(7)的數(shù)量，且第三凸環(huán)(7)與第一凸環(huán)(5)相互交錯(cuò)設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片蝕刻裝置，其特征在于：所述凸環(huán)組沿滾輪組軸向等間距分布。