1.一種用于處理基板上的材料的設備，所述設備包括：
真空腔室，以及
測量布置，所述測量布置被配置成用于測量所述基板和/或在所述基板上處理的所述材料的一或多個光學性質，所述測量布置包括位于所述真空腔室中的至少一個球體結構。
2.如權利要求1所述的設備，其中所述一或多個光學性質選自由反射率和透射率組成的組。
3.如權利要求1或2所述的設備，其中所述球體結構是積分球。
4.如權利要求1至3中的任一項所述的設備，其進一步包括基板支撐件，所述基板支撐件在所述真空腔室中，其中所述基板支撐件被配置成用于支撐所述基板，并具體地其中所述基板是柔性基板。
5.如權利要求4所述的設備，其中所述基板支撐件包括第一輥和第二輥，所述第一輥和所述第二輥設置成平行于所述第一輥與所述第二輥之間形成的間隙，用于傳送所述基板，具體地是所述柔性基板。
6.如權利要求5所述的設備，其中具體地在測量所述基板和/或在所述基板上處理的所述材料的所述一或多個光學性質期間，所述球體結構定位在所述第一輥與所述第二輥之間的區(qū)域中。
7.如權利要求1至6中任一項所述的設備，其中所述測量布置包括位于所述球體結構處的光源、以及位于所述球體結構處的第一檢測器，所述第一檢測器用于測量所述基板和/或在所述基板上處理的所述材料的反射率。
8.如權利要求1至7中任一項所述的設備，其中所述測量布置包括位于所述球體結構處的光源、以及第二檢測器，所述第二檢測器用于測量所述基板和/或在所述基板上處理的所述材料的透射率。
9.如權利要求1至8中任一項所述的設備，其進一步包括傳送裝置，所述傳送裝置被配置成用于移動至少所述球體結構，具體地在所述真空腔室內進行移動。
10.如權利要求9所述的設備，其中所述傳送裝置被配置成用于將至少所述球體結構移動到反射率校準位置和/或透射率校準位置。
11.如權利要求1至10中任一項所述的設備，其中所述測量布置進一步包括冷卻裝置。
12.一種用于通過處理設備來測量基板和/或在所述基板上處理的材料的一或多個光學性質的方法，其中所述處理設備包括真空腔室，所述方法包括：
使用具有設在所述真空腔室中的至少一個球體結構的測量布置來測量所述一或多個光學性質。
13.如權利要求12所述的方法，其進一步包括：
將至少所述球體結構移動到所述真空腔室中的第一校準位置，具體地是移動到反射率校準位置，并且校準所述測量布置，和/或
將至少所述球體結構移動到所述真空腔室中的第二校準位置；具體地是移動到透射率校準位置，并且校準所述測量布置。
14.如權利要求13所述方法，其中周期性地或非周期性地重復在所述第一校準位置處的校準和在所述第二校準位置處的校準。
15.一種用于處理基板上的材料的設備，所述設備包括：
真空腔室，
測量布置，所述測量布置包括在所述真空腔室中的至少一個球體結構，其中所述測量布置被配置成用于測量所述基板和/或在所述基板上處理的所述材料的反射率和透射率中的至少一者，以及
傳送裝置，所述傳送裝置被配置成用于在所述真空腔室內、在測量位置與至少一個校準位置之間移動至少所述球體結構。